主要設備

当社では、超精密加工・検査のための基本環境の構築をしております。各工場にクリーンルームを設備し、更に、本社工場には「超純水製造装置」「酸アルカリ中和漕、スラッチ(研磨排水)プレス機、スクラバーといった排水処理施設」を備えています。

装置名 型式 メーカー 台数
保護テープ貼り装置 ATM-1100D タカトリ 1
保護テープ貼り装置 ATM-3000 タカトリ 1
裏面研削装置 DFG850 ディスコ 1
裏面研削装置 DFG8540 ディスコ 1
裏面研削装置 DFG8560 ディスコ 1
ドライポリッシュ装置 DFP8140 ディスコ 1
ドライポリッシュ装置 DFP8160 ディスコ 1
保護テープ剥離装置 ATRM-2100D タカトリ 1
保護テープ剥離装置 ATRM-2300TK タカトリ 1
レーザーマーキング装置 LAY-701ASAB 芝浦メカトロニクス 2
ウェハ自動外観検査装置 INSPECTRA1000-EX 東レエンジニアリング 1
テープマウンター RAD-2500M/6 リンテック 1
テープマウンター RAD-2500M/8 リンテック 1
テープマウンター ATM8100S タカトリ 1
テープマウンター ATM8100X タカトリ 1
フルオートダイシング装置 DFD6340 ディスコ 3
フルオートダイシング装置 DFD6361 ディスコ 2
フルオートダイシング装置 DFD650 ディスコ 1
フルオートダイシング装置 DFD651 ディスコ 3
レーザーダイシング装置 HLS300A ディスコ、SYNOVA 1
定温水供給装置 DTU152 ディスコ 3
定温水供給装置 DTU1531 ディスコ 1
CO2バブラー置 NDB-2 野村マイクロサイエンス 1
CO2バブラー置 NDB-3 野村マイクロサイエンス 3
CO2バブラー置 NDB-4 野村マイクロサイエンス 2
CO2バブラー置 RC2000ACD NGKフィルテック 1
UV照射装置 RAD-2000F/8 リンテック 1
UV照射装置 TUV-M タカトリ 1
チップ選別機 WCS-800 エムテック 8
チップ選別機 WCS-700C エムテック 12
チップ選別機 WCS-1200 エムテック 1
チップ選別機 CAP-300Ⅱ キャノンマシナリー 2
イントレイ自動外観検査装置 ARM NEC 1
イントレイ自動外観検査装置 FRM NEC 5
金属顕微鏡 BH3 オリンパス 1
金属顕微鏡 BHM オリンパス 24
金属顕微鏡 BHT オリンパス 4
金属顕微鏡 MX50 オリンパス 3
金属顕微鏡 NSL オリンパス 1
実体顕微鏡 SMZL ニコン 1
結束機 OP-301 ニチロ工業 3
脱気シーラー V-300 富士インパルス 3
脱気シーラー V-402-CH 富士インパルス 1
脱気シーラー V-610C 富士インパルス 1

計測器一覧(半導体)PDFリンク

主要設備写真1

主要設備写真2

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