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沿革

History沿革

できごと 製造品目
1970年 会社設立 精密挽物部品の製造
1976年   腕時計部品の組立・検査
1979年   半導体パッケージ電特検査
1984年   半導体ベアチップ外観検査
1987年 超純水製造装置導入 HDDディスク基板の研磨加工
半導体ダイシング加工装置導入
1990年   プリンターヘッド顕微鏡検査
1992年   液晶カラーフィルター外観検査
インクパック袋洗浄、洗浄液製造開始
1996年 新工場建設
超純水製造装置増設
インクパック注入
1998年   インク製造
2000年 ISO9002、ISO14001認証取得 半導体ウェハープローブ検査
2001年   KDインク製造
2002年   液晶ガラス基板研磨加工
2003年 第2工場増設
品質ISO9001:2000取得
半導体ウェハー裏面研削装置導入
水系カートリッジ組立開始
2004年 第3工場増設 顔料系インクの製造
2007年   レーザーマーキング装置導入
2010年   ウォーターレーザー装置導入
2013年   エヌエステック設立 ガラス加工
2014年 超純水製造装置更新 半導体ウエハー裏面鏡面加工装置導入(DP方式)
2019年 創立50周年を迎える 半導体ウエハー裏面鏡面加工装置導入(CMP方式)

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